Бєловол, Юрій ЮрійовичБраженко, Світлана Анатоліївна2023-03-132023-03-132015-02-10https://dspace.pdau.edu.ua/handle/123456789/149621. Вертикально-фрезерний робочий орган для смугового обробітку ґрунту, що містить привідні зовнішній та внутрішній вали із вертикальною або крутонахиленою віссю обертання, яким надається примусовий обертальний рух у зустрічних напрямках, де встановлені диски з ріжучими елементами, який відрізняється тим, що на зовнішньому диску встановлені ріжучі елементи з активним кутом атаки у межах 1=1-35° та зовнішньою заточкою ріжучої кромки, а на внутрішньому диску встановлені ріжучі елементи із пасивним кутом атаки в межах 2=1-35° та внутрішньою заточкою ріжучої кромки; довжина ріжучих елементів підібрана так, щоб виконувати обробіток на однакову глибину, яка визначається із біологічних особливостей розвитку кореневої системи культурних рослин, а діаметри кіл, що описують зовнішній та внутрішній диски, визначаються із наступних співвідношень: Dзовн.=Dк.с.·kф.-м.в., де: Dзовн. - діаметр кола, що описує зовнішній диск під час обертання, мм; Dк.с. - діаметр розповсюдження кореневої системи культурної рослини в період укорінення та сталого вегетативного розвитку, мм; kф.-м.в. - коефіцієнт, що враховує фізико-механічні властивості ґрунту. Dвн.=Dк.с.·2k, де: Dвн. - кола, що описує внутрішній диск під час обертання, мм; k - величина, що враховує бокову деформацію ґрунту ріжучими елементами зовнішнього та внутрішнього дисків та залежить від фізико-механічних властивостей ґрунту. 2. Вертикально-фрезерний робочий орган для смугового обробітку ґрунту за п. 1, який відрізняється тим, що на зовнішньому диску встановлюється від 2 до 8 ріжучих елементів, а на внутрішньому - від 2 до 5 і використовуються ріжучі елементи постійного, змінного поперечного перерізу по довжині та із кутом скручування =3-15°. 3. Вертикально-фрезерний робочий орган для смугового обробітку ґрунту за пп. 1, 2, який відрізняється тим, що кут нахилу осі обертання робочого органу регулюється у вертикально-повздовжній площині в межах =0-20°.Patent